در فرآیند لیتوگرافی، میزان بازدهی بستگی به دقت کنترل دما دارد. تغییر دمای ۲ درجه سانتیگراد در فرآیند پخت نرم، منجر به اختلال در کنترل دقت سطح ویفر میشود؛ همچنین، عدم یکنواختی در فرآیند پخت، باعث ناهمواری سطح ویفر میگردد. بنابراین، ما یک هیتر مبتنی بر نانولولههای کربنی ساختیم تا از نیاز به پیشبینی دقیق دما در فرآیندهای خشک کردن ویفر، پیشپخت فوتورزیست و پخت نهایی، جلوگیری شود.
آنچه اهمیت دارد: این هیتر از نانولولههای کربنی برای ارائه انرژی مادون قرمز سریع و پایدار استفاده میکند؛ همچنین، دمای ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ میکند. واکنش این هیتر در کمتر از یک ثانیه اتفاق میافتد؛ بنابراین دما بیش از حد افزایش نمییابد. لایههای نازک نیز در امان باقی میمانند و مصرف انرژی نیز کاهش مییابد. این هیتر در محیطهای با استانداردهای کلاس ۱ تا ۱۰۰ قابل استفاده است؛ همچنین، در حین کار هیچ ذرهای تولید نمیکند. این هیتر در فرآیندهای تولید، ۲۴ ساعته و بدون مشکل کار میکند. بازدهی این هیتر در طول بیش از ۵٬۰۰۰ ساعت کار، کمتر از ۵ درصد کاهش مییابد؛ بنابراین قابلیت تکرارپذیری آن در تولید بالا است.
نکات عملی: برای استفاده از این هیتر، باید ولتاژ و رابطات اتصال آن را با دستگاه مربوطه هماهنگ کرد؛ همچنین، هماهنگی نوری نیز برای حفظ یکنواختی تابش نور روی ویفر ضروری است. این هیتر در شرایط اتاقهای بسته عملکرد بهتری دارد؛ زیرا جریانهای هوای خارجی میتوانند باعث تغییرات جزئی در دما شوند. برای تنظیم سرعت افزایش دما و مقدار دمای مورد نظر، باید یک آزمایش کوتاه انجام داد.