Menghilangkan Ozon dalam Proses Pengeringan Semikonduktor
Saat memproduksi semikonduktor, “kebersihan” bukan sekadar preferensi—itu merupakan hal yang sangat penting. Proses pengeringan dan pematangan harus dilakukan sedemikian rupa sehingga tidak ada sisa apa pun. Tidak boleh ada residu atau bahan kimia sama sekali.
Masalahnya adalah, banyak metode pemanasan tradisional yang tidak mampu memenuhi standar lingkungan yang ramah lingkungan dan bebas timbal saat ini. Di sinilah peran lampu inframerah tanpa ozon kita masuk.
Masalah dengan Lampu Inframerah “Standar”
Lampu inframerah berfrekuensi pendek menghasilkan radiasi dalam rentang 185nm hingga 250nm. Radiasi tersebut, ketika bertemu dengan oksigen di udara, akan menciptakan ozon.
Di ruang bersih, ozon merupakan masalah besar. Ozon merupakan polutan yang dapat merusak komponen-komponen sensitif dan membuat udara menjadi tidak nyaman, bahkan berbahaya, bagi orang-orang yang bekerja di sana.
Kita mengatasi masalah ini dengan menggunakan lapisan khusus berbahan kuarsa yang memiliki filter selektif. Lapisan ini berfungsi sebagai pelindung; ia menahan radiasi UV yang menyebabkan pembentukan ozon, namun membiarkan panas melewati lapisan tersebut. Dengan demikian, Anda tetap mendapatkan panas yang diperlukan, tanpa adanya polutan kimia.
Penerapan dalam Sistem Produksi
Lampu-lampu ini mampu menghasilkan banyak panas dalam ruang yang kecil. Karena energi dipindahkan melalui radiasi, maka waktu yang digunakan untuk memanaskan seluruh ruangan menjadi lebih singkat. Anda hanya perlu mengatur suhu yang diinginkan, dan substrat akan mencapai suhu yang tepat dalam hitungan detik.
Dengan cara ini, proses produksi menjadi lebih bersih, lebih cepat, dan sesuai dengan standar lingkungan global, tanpa mempersulit pekerjaan Anda.