Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi yang diperlukan. Penyimpanan bahan pelarut dalam lapisan fotoresist juga menjadi tidak dapat diramalkan, dan hasil pengeluaran pun menurun. Kami telah merancang pemanas inframerah khusus untuk proses pra-pemanasan fotoresist, agar variasi suhu tersebut dapat dihilangkan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan pengeluarkan sinar inframerah berfrekuensi rendah yang mempunyai masa tindak balas yang cepat serta kawalan spektrum yang tepat. Ini membolehkan suhu naik dengan cepat tanpa melebihi had yang ditetapkan. Kekonsistenan suhu pada permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, dan ini telah disahkan dalam keadaan pengeluaran sebenar. Keserasian dengan bilik bersih bukanlah sekadar slogan semata-mata; pemanas ini memenuhi standard ISO Class 1–100, tanpa penghasilan zarah atau gas berbahaya, sehingga integriti lapisan fotoresist tetap terjaga. Kekonsistenan suhu antara setiap kali pemanasan adalah sekitar ±0.2°C, yang memastikan proses pengeluaran tetap stabil walaupun beribu-ribu wafer diproses.
Inilah sebabnya mengapa perkara ini penting dalam praktiknya: proses pemanasan yang tepat sangat penting untuk memastikan hasil yang berkualiti. Penggunaan sinar inframerah membantu mengurangkan masa yang diperlukan untuk proses pemanasan, sambil menstabilkan jumlah bahan pelarut yang masih ada. Ini seterusnya meningkatkan kekonsistenan lebar garis pada wafer, serta mengurangkan keperluan untuk memproses semula wafer tersebut. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemanasan dilakukan pada objek yang perlu dipanaskan, bukan pada dinding bilik. Kebolehpercayaan pemanas ini tinggi, sesuai untuk digunakan 24/7, dengan jangka hayat yang panjang dan kurang gangguan semasa operasi.
Proses pemasangan hanyalah menyelaraskan pemanas tersebut dengan bilik proses, serta menyambungkannya ke litar kuasa yang sesuai. Pemanas ini boleh digunakan bersama pembawa wafer standard, tetapi perlu disahkan lagi keserasiannya dengan setiap platform yang digunakan. Proses penyesuaian pemanas memerlukan masa yang singkat sahaja; profil suhu dapat ditentukan dengan mudah, dan kekonsistenan suhu juga dapat disahkan. Setelah diselesaikan, proses pengeluaran akan tetap stabil.