Сокращение выбросов углерода на производстве: почему именно кратковолновое инфракрасное излучение — лучший решение
Все, кто работает в области полупроводников, сталкиваются с давлением, связанным с необходимостью достижения углеродной нейтральности. Это огромная нагрузка. Если посмотреть, куда фактически уходит энергия, то огромная часть её тратится на нагрев пластин и других компонентов в процессе их обработки.
Поэтому мы перешли на использование кратковолновых инфракрасных ламп. Вместо того чтобы нагревать всю камеру, что равносильно нагреву всей комнаты лишь для того, чтобы нагреть одну чашку кофе, инфракрасные лампы направляют энергию прямо на поверхность пластины.
Энергопотребление
Традиционные резистивные нагреватели, честно говоря, довольно неэффективны. Они тратят слишком много времени на нагрев окружающего воздуха и стенок камеры. Кратковолновые инфракрасные лампы работают иначе: они излучают свет в спектре, который кремний и другие материалы могут поглощать мгновенно. Это делает процесс нагрева очень быстрым.
Если удалить всего несколько секунд с времени нагрева каждой пластины, это уже будет значительной экономией энергии.
Как это работает?
Для производства таких ламп мы используем высокочистый кварц и галогеновую технологию. Галогенный газ выполняет важную функцию: он предотвращает испарение вольфрамовой нити и загрязнение стенок лампы. Это позволяет лампе сохранять чистоту и стабильность температуры в течение тысяч часов.
В зависимости от типа пластин, мы можем добавить специальные покрытия на кварц. Это позволяет блокировать ненужные длины волн и направлять энергию именно туда, где она нужна.
Преимущества
Самое большое преимущество — это отсутствие «потерь» энергии во время ожидания. Поскольку инфракрасные лампы включаются и выключаются мгновенно, нет необходимости поддерживать систему в состоянии нагрева в ожидании. Их можно включать только тогда, когда это действительно необходимо.
Это снижает углеродный след производства, а команда, ответственная за системы охлаждения, будет благодарна за снижение нагрузки на эти системы.