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		<title>Backen on Quality Infrared Heating Products</title>
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				<title>Infrarotheizer zur Vorheizung des Photoresists</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-goods.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Infrarotheizer zur Vorheizung des Photoresists&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Lithografieabteilung führt bereits eine leichte Temperaturabweichung vonhalb eines halben Grades dazu, dass die Kontrolle der kritischen Abmessungen nicht mehr gewährleistet ist. Die Menge an Lösungsmitteln im Fotoresistent wird unvorhersehbar – dadurch sinkt die Ausbeute. Wir haben unsere Infrarotheizgeräte so konzipiert, dass diese Unwägbarkeiten beseitigt werden.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir nutzen Infrarotstrahler mit schneller Reaktionszeit und präziser Spektralkontrolle. Dadurch erfolgt eine schnelle Erwärmung ohne Überschreiten der gewünschten Temperaturwerte. So wird eine Homogenität von ±0,1°C auf der gesamten Oberfläche des Wafer erreicht – dies wird unter Produktionsbedingungen überprüft. Die Kompatibilität mit Reinräumen ist selbstverständlich – die Heizgeräte entsprechen den Anforderungen von ISO-Klasse 1–100. Dadurch bleibt die Integrität des Films erhalten. Die Wiederholgenauigkeit liegt bei ±0,2°C pro Prozessschritt – dadurch bleibt das Prozessfenster über Tausende von Wafern hinweg konstant.&lt;/p&gt;</description>
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