Chauffage infrarouge de pré cuisson du photorésistant

Mon, 22 Jun 2026 23:24:50 +0800

Dans le domaine de la lithographie, même une légère variation de température de 0,5 degré peut faire échouer le contrôle des dimensions critiques. La rétention de solvants dans le photorésistant devient alors imprévisible, ce qui entraîne une baisse du taux de réussite du processus. Nous avons conçu des chauffages infrarouges pour le préchauffage du photorésistant, afin d’éliminer cette variabilité.

Ce qui est important en réalité Nous utilisons des émetteurs infrarouges à courte longueur d’onde, dotés d’une réponse rapide et d’un contrôle spectral précis. Cela permet une élévation rapide de la température, sans excès. On obtient ainsi une uniformité de ±0,1°C sur toute la surface de préchauffage, ce qui est vérifié dans des conditions de production réelles. La compatibilité avec les chambres propres n’est pas qu’une promesse : ces chauffages répondent aux normes ISO 1–100, avec zéro génération de particules et un contrôle strict des émissions gazeuses, ce qui garantit l’intégrité du film photo-résistant. La reproductibilité reste stable, avec des variations de ±0,2°C d’un préchauffage à l’autre, ce qui permet de maintenir une stabilité dans le processus, même pour des milliers de wafers.

Cuire Au Four on Quality Infrared Heating Products

Chauffage infrarouge de pré cuisson du photorésistant