Di bagian yang basah dalam proses litografi, adanya sisa air atau panas yang tidak merata bukanlah masalah sepele. Hal tersebut justru merupakan sumber partikel berbahaya dan kesalahan dimensi yang bisa terjadi. Diperlukan sistem pemanasan yang cepat, sehingga permukaan dapat kering dengan sempurna, tanpa meninggalkan kelembapan atau partikel di permukaan tersebut.
Apa yang penting dalam proses ini Kami memilih lampu inframerah tahan air untuk proses pembersihan, yaitu lampu inframerah gelombang pendek (SWIR). Lampu ini memiliki lapisan kuarsa, filamen halogen, respons yang cepat, dan output yang stabil. Pilihlah panjang gelombang yang efektif untuk diserap oleh air, sehingga permukaan dapat dipanaskan dengan cepat tanpa merusak substratnya. Pastikan agar suhu di seluruh area target tetap konstan pada tingkat ±0,1°C, sehingga kondisi termal fotoresisten tetap sesuai standar.
Lampu ini memiliki tingkat perlindungan IP67, dengan komponen-komponen yang tahan korosi, sehingga dapat bertahan terhadap paparan air dan bahan pembersih yang agresif. Lampu ini juga kompatibel dengan ruang bersih kelas 1–100. Desainnya memastikan bahwa tidak ada partikel yang dihasilkan selama proses operasi berlangsung.
Mengapa hal ini cocok untuk proses ini Dalam proses pembersihan dan pengeringan wafer, siklus pembersihan dan pengeringan harus menghasilkan permukaan yang kering dan bebas dari kontaminasi. Lampu inframerah membantu proses pengeringan secara efektif, sehingga waktu siklus menjadi lebih singkat dan penggunaan air murni pun berkurang. Kontrol suhu yang akurat memastikan integritas fotoresisten tetap terjaga setelah proses pembersihan. Konstruksi lampu yang tahan air menghindarkan gangguan akibat kebocoran, sedangkan output yang stabil memungkinkan proses berjalan 24/7 tanpa perlu kalibrasi yang sering.
Apa yang perlu diperhatikan agar proses berjalan lancar Proses instalasi lampu sangat bergantung pada penyesuaian posisi dan jarak antara lampu dengan wafer. Profil intensitas cahaya harus dikontrol dengan baik, sehingga tidak ada titik-titik panas yang terbentuk, namun permukaan wafer tetap dapat terpapar cahaya secara merata. Lampu ini menghasilkan panas yang tinggi di permukaannya, sehingga diperlukan isolasi termal dan kabel penghubung yang efektif. Pastikan panjang gelombang dan densitas daya lampu sesuai dengan kondisi kimia yang digunakan serta jenis wafer yang diproses, sehingga hasil yang diinginkan dapat dicapai.