<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bilas on Quality Infrared Heating Products</title>
		<link>http://ir-heat-goods.com/id/tags/bilas/</link>
		<description>Recent content in Bilas on Quality Infrared Heating Products</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:42:49 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-goods.com/id/tags/bilas/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah tahan air untuk proses pencucian</title>
				<link>http://ir-heat-goods.com/id/posts/waterproof-infrared-lamp-for-rinse/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:42:49 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-goods.com/id/posts/waterproof-infrared-lamp-for-rinse/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-goods.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah tahan air untuk proses pencucian&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bagian yang basah &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;dalam&lt;/a&gt; proses litografi, adanya sisa air atau panas yang &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;tidak&lt;/a&gt; merata bukanlah masalah sepele. Hal tersebut &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;justru&lt;/a&gt; merupakan sumber partikel berbahaya dan kesalahan dimensi yang bisa terjadi. Diperlukan sistem pemanasan yang cepat, sehingga permukaan dapat kering dengan sempurna, tanpa meninggalkan kelembapan atau partikel di permukaan tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam proses ini&lt;/strong&gt;&#xA;Kami memilih lampu inframerah tahan air untuk proses pembersihan, yaitu lampu inframerah gelombang pendek (SWIR). Lampu ini memiliki lapisan kuarsa, filamen halogen, respons yang cepat, dan output yang stabil. Pilihlah panjang gelombang yang efektif untuk diserap oleh air, sehingga permukaan dapat dipanaskan dengan cepat tanpa merusak substratnya. Pastikan agar suhu di seluruh area target tetap konstan pada tingkat ±0,1°C, sehingga kondisi termal fotoresisten tetap sesuai standar.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
