Dalam proses litografi, tahap keberkesanan proses ini ditentukan oleh perubahan suhu yang berlaku. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran lembut boleh merosakkan kawalan ketepatan ukuran cakera tersebut. Selain itu, jika proses pembakaran tidak dilakukan secara seragam, ia akan menyebabkan permukaan cakera menjadi tidak rata. Oleh itu, kami mencipta pemanas berasaskan nanotube karbon untuk mengelakkan masalah berkaitan suhu semasa proses pengeringan wafer, pra-pembakaran bahan fotoresest, dan pembakaran sebenar.
Apa yang penting di sebaliknya:
Pemanas ini menggunakan unsur-unsur nanotube karbon untuk menghasilkan tenaga inframerah yang cepat dan stabil. Ia memastikan suhu wafer kekal seragam dalam lingkungan ±0.1°C. Masa tindak balasnya sangat singkat, jadi suhu tidak akan melebihi had yang ditetapkan. Ini membolehkan lapisan nipis pada wafer tetap terlindung, dan penggunaan tenaga juga dapat dikurangkan kerana haba hanya digunakan di tempat yang diperlukan. Sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih berkelas 1 hingga 100. Ia tidak menghasilkan zarah-zarah berbahaya semasa beroperasi, dan boleh berfungsi dengan stabil 24/7 dalam proses pengeluaran. Prestasinya kekal stabil walaupun selepas 5,000 jam operasi, dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Ini memastikan konsistensi hasil produksi.
Bagaimana ia berfungsi dalam proses pengeluaran:
Proses pembakaran lembut memastikan profil bahan fotoresest kekal konsisten. Proses pembakaran keras pula memastikan hasilnya konsisten setiap kali dilakukan. Wafer yang dihasilkan akan menjadi kering dan lulus ujian tanpa perlu diperbaiki lagi. Kawalan suhu yang tepat dapat mengurangkan masa yang diperlukan untuk memanaskan wafer, mengurangkan sisa bahan yang tidak digunakan, dan menjimatkan tenaga. Anda boleh mendapatkan masa proses yang lebih cepat tanpa mengorbankan ketepatan ukuran cakera tersebut. Selain itu, sistem ini tidak memerlukan penggantian pemanas secara kerap, kerana ia mampu menahan tekanan suhu yang tinggi tanpa merosot kualitinya.
Beberapa perkara penting sebelum menggunakannya:
Anda perlu memastikan voltan dan antaramuka konektor alat tersebut sesuai. Penyesuaian optik juga penting untuk memastikan pancaran cahaya yang sama rata pada seluruh permukaan wafer. Pemanas ini akan berfungsi dengan lebih baik apabila bilik tersebut tertutup rapat; angin luar boleh menyebabkan perubahan suhu yang kecil. Lakukan ujian awal untuk menyesuaikan kadar pemanasan dan tetapan yang sesuai untuk jenis bahan fotoresest yang digunakan.