Mengawal suhu yang sesuai untuk wafer biosensor
Ketika membina biosensor, suhu yang dikenakan pada wafer bukan sekadar tetapan biasa pada alat kawalan suhu – ia merupakan faktor penting yang menentukan kualiti hasil pengeluaran. Jika suhu tidak dikawal dengan betul, keseluruhan proses pengeluaran akan gagal. Itulah sebabnya kami menggunakan lampu inframerah (IR) bersama-sama dengan reflektor yang dilapisi emas. Konsepnya mudah: kita tidak mahu tenaga tersebut bocor ke bahagian lain dalam mesin. Kita mahu setiap titik tenaga tersebut sampai ke permukaan wafer.
Mengapa emas?
Kebanyakan orang menggunakan reflektor berbahan aluminium, tetapi masalahnya ialah aluminium menyerap terlalu banyak tenaga inframerah. Ini merupakan pembaziran tenaga. Oleh itu, kami menggunakan emas yang berkualiti tinggi kerana ia sangat efektif dalam memantulkan cahaya inframerah.
Daripada tenaga panas tersebar ke mana-mana, lapisan emas ini akan memantulkan foton tersebut kembali ke wafer. Ini menjadikan keseluruhan sistem lebih efisien. Suhu permukaan wafer dapat dikawal dengan baik tanpa perlu meningkatkan kuasa yang digunakan secara berlebihan. Cara ini jauh lebih baik.
Menguruskan intensiti haba
Apabila menggunakan lampu IR berkuasa tinggi, suhu di sekitar wafer akan meningkat dengan cepat. Kami merancang lampu-lampu ini agar dapat memberi kesan pada bahagian tertentu sahaja pada wafer. Kita tidak boleh membiarkan adanya “titik panas” – ini akan merosakkan susunan sensor dan menyebabkan seluruh projek gagal.
Namun, ada masalah juga. Radiasi yang terkumpul itu bukan sahaja memanaskan wafer, tetapi juga udara dan komponen-komponen di sekelilingnya. Jika sistem penyejukan tidak berfungsi dengan baik atau aliran udara tidak lancar, suhu wafer akan menjadi tidak stabil. Ini sangat mengganggu, tetapi ia boleh dielakkan.
Memasangnya ke dalam sistem pengeluaran
Kami memastikan reka bentuk lampu ini sesuai untuk dipasang dengan mudah. Lampu-lampu ini direka supaya boleh diganti tanpa perlu mengambil masa lama untuk menyetel semula fokus reflektor.
Kelebihan utamanya ialah kelajuan. Kerana lapisan emas sangat efektif, wafer dapat mencapai suhu yang diinginkan dengan lebih cepat. Ini memendekkan masa pelaksanaan proses pengeluaran, dan yang lebih penting, melindungi lapisan aktif pada wafer daripada tekanan haba yang tidak perlu.
Cara ini lebih efisien, cepat, dan kurang memberi tekanan pada peralatan yang digunakan.