<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bakar on Quality Infrared Heating Products</title>
		<link>http://ir-heat-goods.com/ms/tags/bakar/</link>
		<description>Recent content in Bakar on Quality Infrared Heating Products</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 23:24:50 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-goods.com/ms/tags/bakar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah untuk proses pra pembakaran bahan photoresist</title>
				<link>http://ir-heat-goods.com/ms/posts/photoresist-pre-bake-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:24:50 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-goods.com/ms/posts/photoresist-pre-bake-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-goods.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah untuk proses pra pembakaran bahan photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi yang diperlukan. Penyimpanan bahan pelarut dalam lapisan fotoresist juga &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;menjadi&lt;/a&gt; tidak dapat diramalkan, dan hasil pengeluaran pun menurun. Kami telah merancang pemanas inframerah khusus untuk proses pra-pemanasan fotoresist, agar variasi suhu tersebut dapat dihilangkan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;menggunakan&lt;/a&gt; pengeluarkan sinar inframerah berfrekuensi rendah yang mempunyai masa tindak balas yang cepat &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;serta&lt;/a&gt; kawalan spektrum yang tepat. Ini membolehkan suhu naik dengan cepat tanpa melebihi had yang ditetapkan. Kekonsistenan suhu pada permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, dan ini telah disahkan dalam keadaan pengeluaran sebenar. Keserasian dengan bilik bersih bukanlah sekadar slogan semata-mata; pemanas ini memenuhi standard ISO Class 1–100, tanpa penghasilan zarah atau gas berbahaya, sehingga integriti lapisan fotoresist tetap terjaga. Kekonsistenan suhu antara setiap kali pemanasan adalah sekitar ±0.2°C, yang memastikan proses pengeluaran tetap stabil walaupun beribu-ribu wafer diproses.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
