
Nella fase di risciacquo della cella di litografia, la presenza di tracce d’acqua o un riscaldamento non uniforme non rappresenta certo un problema trascurabile. Si tratta invece di situazioni che possono causare l’accumulo di particelle e errori dimensionali. È necessario che il riscaldamento avvenga rapidamente, che la superficie venga asciugata perfettamente, e che tutto ciò avvenga senza che vengano rilasciate nuove particelle o umidità nel flusso di acqua.
Cosa è importante sotto il profilo tecnico
Per la fase di risciacquo, abbiamo progettato una lampada a infrarossi impermeabile, basata su radiazioni a corta lunghezza d’onda: involucro in quarzo, filamento al卤ogeno, tempi di risposta rapidi e output stabile. È importante scegliere una lunghezza d’onda che l’acqua assorba efficacemente, così da ottenere un rapido riscaldamento della pellicola, senza però danneggiare il substrato. È inoltre necessario mantenere un’omogeneità termica nella zona interessata entro ±0,1°C, e garantire una precisione nella regolazione della temperatura, in modo che il fotorest possa funzionare correttamente.
La lampada è certificata IP67: i componenti interni sono sigillati e il corpo della lampada è resistente alla corrosione. Questo permette alla lampada di funzionare anche in ambienti umidi o con prodotti pulenti aggressivi. È compatibile con stanze pulite di classe 1–100, e durante il funzionamento non si generano particelle.
Perché questa soluzione è adatta al processo
Nella fase di pulizia e asciugatura dei wafer, il ciclo di risciacquo e asciugatura deve terminare con una superficie asciutta e priva di contaminanti. La lampada a infrarossi permette di asciugare la superficie direttamente, riducendo così i tempi di ciclo e l’uso di acqua distillata. Il controllo preciso della temperatura garantisce che la qualità del fotorest rimanga costante da un lotto all’altro. La struttura impermeabile della lampada elimina i problemi legati alle perdite d’acqua, mentre l’output stabile permette di funzionare 24/7 con poche necessità di regolazione.
Cosa è necessario fare per ottenere buoni risultati
L’installazione richiede una corretta allineamento e una giusta distanza tra la lampada e la superficie da trattare. Poiché il profilo di irradiazione è molto preciso, è necessario impostare correttamente la distanza per evitare zone troppo calde, mantenendo allo stesso tempo una copertura completa della superficie. La lampada genera calore elevato sulla superficie, quindi è fondamentale utilizzare isolamento termico e circuiti di sicurezza. È importante abbinare la lunghezza d’onda e la densità di potenza alla chimica utilizzata per il risciacquo e alle caratteristiche del wafer, così da ottenere i risultati desiderati.