Litografide verimlilik, derecelerle ifade edilir. Yumuşak pişirme işlemi sırasında 2°C’lik bir değişiklik bile CD kontrolünü bozar. Eğer sert pişirme işlemi düzgün yapılmazsa, çizgi kenarlarında pürüzler oluşur. Bu yüzden, wafelerin kurutulması, fotoğraf direncinin önceden pişirilmesi ve sert pişirilmesi işlemlerinde termal kontrolü sağlamak için karbon nanotüp tabanlı bir ısıtıcı geliştirdik.
İç yapısında önemli olan şeyler
Bu ısıtıcı, hızlı ve stabil kızılötesi enerji sağlamak için karbon nanotüp elemanlarından yararlanır. Böylece wafelerdeki sıcaklık farkı ±0,1°C içinde tutulur. Yanıt süresi saniyenin altındadır; bu sayede sıcaklık aşılır ve ince filmler korunur. Ayrıca, Class 1–100 sınıflarındaki temiz odalarda kullanıma uygundur; çalışma sırasında hiçbir parça üretilmez. Üretim süreçlerinde 24/7 güvenilir şekilde çalışır. 5.000 saatten fazla kullanım sonrasında bile verimlilik %5’in altında düşer; böylece üretim süreçlerinde tekrarlanabilirlik sağlanır.
Uygulamadaki etkileri
Yumuşak pişirme işlemi, tutarlı fotoğraf direnci profilleri sağlar. Sert pişirme işlemi ise tekrarlanabilir hale gelir. Wafeler kuru halde çıkar ve tekrar işleme gerek kalmadan kontrolünden geçer. Sıkı termal kontrol, ısınma süresini azaltır, atık miktarını düşürür ve enerji tasarrufu sağlar. Böylece daha hızlı işlem süreleri elde edilirken CD’nin stabilitesi korunur. Ayrıca, bu karbon nanotüp sistem sayesinde ısıtıcıları sık sık değiştirmeye gerek kalmaz.
Kullanmadan önce dikkat edilmesi gerekenler
Cihazın voltajını ve bağlantı arayüzünü uyumlu hale getirmeniz gerekir. Ayrıca, wafenin her yerinde eşit ışınlanma sağlamak için optik hizalama önemlidir. İşlem odası kapalıyken ısıtıcı en iyi performansı gösterir; ortamdaki hava akımları küçük sıcaklık dalgalanmalarına neden olabilir. Belirli bir fotoğraf direnci kombinasyonu için rampa hızlarını ve ayar noktalarını belirlemek için kısa bir test çalışması yapılmalıdır.