Aan de ‘natte’ kant van de lithografiecel is het niet erg als er watervlekken of oneffenheden in de hitteontwikkeling optreden. Het kan echter leiden tot problemen als het vastlopen van deeltjes en fouten in de afmetingen. Er moet snel hitte worden gegenereerd, zodat het oppervlak goed kan drogen – zonder dat er vocht of deeltjes terug in de stroom terechtkomen.
Wat belangrijk is Voor de reinigingsstap hebben we een waterdichte infraroodlamp ontwikkeld die gebruikmaakt van kortegolfig infraroodlicht: een kwartsomhulsel, een halogeenfilament, snelle respons en stabiele output. Kies een golflengtegebied waarbij water efficiënt wordt opgenomen; zo wordt het oppervlak snel opgewarmd en kan het drogen, zonder dat het substraat beschadigt wordt. Houd de thermische uniformiteit binnen ±0,1°C en zorg ervoor dat de temperatuur nauwkeurig wordt gereguleerd, zodat de fotorest intact blijft.
De lamp heeft een IP67-classificatie, met afgesloten verbindingen en een corrosiebestendig behuizing. Hierdoor kan de lamp goed omgaan met vochtige omstandigheden en agressieve reinigers. De lamp is compatibel met zuiverruimten van klasse 1–100. Tijdens het gebruik wordt er geen enkel deeltje gegenereerd.
Waarom dit past bij het proces Bij het schoonmaken en drogen van wafers moet de reinigings- en droogingscyclus eindigen met een droog, vlekkeloos oppervlak. De IR-lamp droogt het oppervlak ter plekke, waardoor de cyclusduur korter wordt en de hoeveelheid gedestilleerd water verminderd. Snelle regeling van de temperatuur zorgt ervoor dat de fotorest na het reinigen nog steeds intact blijft. De waterdichte constructie voorkomt problemen veroorzaakt door lekken, en de stabiele output zorgt ervoor dat de lamp 24/7 kan werken, met minimale recalibratiebehoefte.
Wat je moet controleren Bij de installatie is het belangrijk om rekening te houden met de positie van de lamp en de afstand tussen de lamp en het te behandelen oppervlak. De intensiteit van het licht moet nauwkeurig worden gereguleerd, zodat er geen hete punten ontstaan, terwijl het hele oppervlak toch wordt bereikt. Omdat de lamp veel warmte afgeeft, is thermische isolatie en goede bedrading essentieel. Pas de golflengte en vermogensdichtheid aan op de chemie die wordt gebruikt voor het reinigen en op de structuur van de wafers. Op deze manier krijg je het gewenste resultaat.