리소그래피 공정에서 습한 환경에서 세척을 할 때, 물자국이 남거나 열 분포가 고르지 않은 경우는 사소한 문제가 아닙니다. 이는 입자가 쌓이거나 치수 오차가 발생할 수 있는 원인이 됩니다. 따라서 빠르게 열을 가하고 깨끗하게 건조시켜야 하며, 수분이나 입자가 다시 흐름 속으로 유입되지 않도록 해야 합니다.
중요한 요소들 우리는 세척 공정에 사용될 방수형 적외선 램프를 단파 적외선(SWIR) 소스로 설계했습니다. 석영 커버와 할로겐 필라멘트를 사용하여 빠른 반응 속도와 안정적인 출력을 보장합니다. 물이 효과적으로 흡수하는 파장대를 선택하면, 기판이 손상되지 않으면서도 빠르게 가열되고 표면이 건조됩니다. 목표 영역 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지하고, 온도의 재현성을 높여서 포토레지스트의 온도가 규격 내에 있도록 해야 합니다.
램프 헤드는 IP67 등급으로, 밀폐된 구조와 부식 방지 처리가 되어 있어 습한 환경이나 강력한 세척제의 영향을 견딜 수 있습니다. 클래스 1–100급 청정실에서도 사용할 수 있으며, 작동 중에는 입자가 전혀 발생하지 않습니다.
왜 이 제품이 적합한가? 웨이퍼 세척 및 건조 공정에서는 세척 후에도 표면이 깨끗하고 오염되지 않아야 합니다. 적외선 램프를 사용하면 그 자리에서 바로 건조되므로 공정 시간이 단축되고 정제수 사용량도 줄어듭니다. 빠른 온도 조절 기능 덕분에 세척 후에도 포토레지스트의 상태가 일관되게 유지됩니다. 방수 구조 덕분에 누출로 인한 고장이 없으며, 안정적인 출력 덕분에 최소한의 조정만으로 24/7 연속 작동이 가능합니다.
올바르게 사용하기 위해 필요한 것들 설치 시에는 정렬과 간격 설정이 중요합니다. 조사 강도가 높기 때문에, 전체 영역을 커버하면서도 과열이 발생하지 않도록 간격을 적절히 설정해야 합니다. 램프는 표면에서 많은 열을 발생시키므로, 열 차단과 안전장치가 반드시 필요합니다. 파장과 전력 밀도를 세척 용액과 웨이퍼의 특성에 맞게 조정하면 원하는 결과를 얻을 수 있습니다.