在光刻工艺中，哪怕温度仅有半度的变化，都可能让关键尺寸控制失灵。此时，光刻胶中的溶剂含量也会变得难以预测，从而导致产品良率下降。我们设计的预烘烤用红外加热器，就是为了消除这种不确定性。
核心要点： 我们使用响应速度快、光谱控制精确的短波红外发射器，这样就能实现快速升温，同时避免温度过度上升。如此一来，晶圆表面的温度均匀性可控制在±0.1°C以内，这一数值是在实际生产条件下经过验证的。此外，该加热器还符合ISO 1–100标准，不会产生任何颗粒物或气体排放，从而确保光刻胶的完整性。每次烘烤后的温度重复性也在±0.2°C范围内，这使得数千块晶圆的加工过程能够保持稳定。
实际上，这一点非常重要：无论是软烘烤还是硬烘烤，关键都是要精确控制温度。红外加热器可以缩短处理时间，同时稳定光刻胶中的残留溶剂，进而提高线宽的均匀性，减少返工次数。由于是直接对目标物体进行加热，而非加热整个腔室，因此能耗也更低。此外，该加热器具备24/7连续工作的能力，其平均无故障时间也有可靠的数据支持，从而减少意外停机的情况。
安装时，只需将加热器与处理腔室对齐，并为其配备专用电源即可。这些加热器可以与标准的晶圆承载装置及接口一起使用，不过仍需对每个平台的隔热性能进行检测。调试过程很简单——只需确定合适的升温曲线，确认温度均匀性即可。一旦设置完毕，整个加工过程就能保持稳定状态。