在光刻工艺中，产量取决于温度控制的精确度。如果软烘烤过程中的温度偏差达到2摄氏度，就会影响CD精度的控制；而如果固化过程不均匀，就会导致线条边缘出现粗糙现象。因此，我们设计了碳纳米管加热器，以此来消除在晶圆干燥、光刻胶预烘烤及最终固化过程中的温度控制难题。
真正重要的因素是什么？ 该加热器利用碳纳米管元件来提供快速且稳定的红外能量，从而将晶圆表面的温度控制在±0.1摄氏度以内。其响应速度极快，因此不会导致温度过高——这样一来，薄膜就能得到有效保护，同时也能节省能源。该加热器适用于1级到100级的洁净室环境，运行过程中不会产生任何颗粒物。在连续24/7的生产环境中，其性能依然稳定。经过5,000小时以上的使用后，其性能下降幅度仍低于5%，因此不同批次的产品也能保持一致的性能。
实际应用效果如何？ 通过软烘烤处理，可以确保光刻胶的厚度保持一致。而硬烘烤过程则能实现精确的控制。如此一来，晶圆在处理完成后就能保持干燥状态，无需重新加工即可通过检测。精确的温度控制还能减少升温时间，降低废品率，同时因为热量能够精准地传递到需要的地方，所以还能节省能源。这样，就可以在保证CD精度的前提下缩短生产周期，而且不必频繁更换加热器——因为这种碳纳米管系统能够承受反复的温度变化而不影响性能。
在使用之前需要注意的一些事项： 需要确保加热器的电压和接口与设备匹配，同时还要注意光学对齐，这样才能确保晶圆表面各处的光照均匀。当反应室处于密封状态时，加热器的性能最佳；因为外界的空气流动可能会导致温度波动。建议先进行一次短暂的调试，以确定合适的升温速率和温度设定值。