24時間365日稼働する製造ラインでは、熱ドリフトは単なる理論上の問題ではありません。それは、データ上で確認できる前から既に発生している品質低下の要因です。わずかな温度変動や過度な加熱があっただけで、再加工が必要になります。そうした問題を解決するために、私たちは調光可能な半導体ヒーターランプを開発しました。
重要なポイント このランプは、フォトレジストの吸収特性に合わせて設計された短波長赤外線エミッターを使用しているため、応答速度は数秒以内で、フィードバック制御も非常に正確です。加熱領域全体での温度安定性は±0.1℃以内であり、つまりすべてのウェーハが同じ熱条件を受けることになります。調光も線形的で再現性が高いため、異なる成膜条件でも再び加熱処理を行う必要はありません。また、このランプはクラス1～100のクリーンルーム環境での使用に適しており、ヒーター自体からは粒子が発生しません。フル負荷状態で5,000時間以上使用しても出力の減少は5％未満であり、連続運転時に予期しない故障は起きません。
実際の工程でなぜ有効か リソグラフィーにおいて、ソフトベイクやハードベイクは、その後のすべての工程の基準となります。このランプを使えば、フォトレジストの温度を適切に保ち、端部分の温度上昇を防ぎ、再加工を減らすことができます。同様の制御機能は、ウェーハの洗浄や乾燥にも役立ちます。ランプは対象物を加熱するだけで、周囲のフレームは加熱されないため、エネルギー消費も少なくて済みます。長寿命であるため、ハードスワップの回数も少なく、PM作業の中断も少なくなります。また、ロットごとに一貫した再現性が得られます。
注意すべき点 ランプをシステムの熱容量に合わせるためには、取り付け位置やコントローラーのPID設定に注意する必要があります。最良の温度安定性を得るためには、ランプをウェーハ面に正確に配置し、指定された調光範囲内に保つ必要があります。範囲を超えると、温度安定性が低下します。また、光学系やクリーンルームの気流を乱さずに、簡単にメンテナンスが行えるように設置計画を立てる必要があります。