リソグラフィー工程のウェットステージでは、水跡や不均一な加熱が生じるような洗浄処理は、些細な問題ではありません。それは、粒子が溜まりやすくなり、寸法誤差が発生する原因となります。したがって、素早く加熱し、しっかりと乾燥させることができ、かつ水分や粒子が再びシステム内に戻らないような仕組みが必要です。
内部構造で重要なのは何か 洗浄工程用に開発された防水型赤外線ランプは、短波長赤外線を利用しています。石英製のケースとハロゲンフィラメントを使用しており、迅速に反応し、安定した出力を提供します。水が効率的に吸収する波長帯を選べば、迅速にフィルムを加熱し、表面を乾燥させることができます。また、対象領域全体での温度偏差を±0.1℃以内に保ち、温度の再現性を高めることで、フォトレジストの温度管理を適切に行うことができます。
このランプヘッドはIP67等級で、密封された接続部と耐腐食性のある筐体を備えているため、湿った環境や強力な洗浄剤の影響を受けにくいです。クラス1～100のクリーンルームでも使用可能で、動作中に粒子が発生することはありません。
なぜこれが適しているのか ウェーハの洗浄・乾燥工程では、洗浄後に表面が乾燥して汚染が残らないようにする必要があります。赤外線ランプを使えば、その場で乾燥させることができるため、処理時間が短縮され、純水の使用量も減少します。迅速な温度制御により、洗浄後のフォトレジストの品質が保たれ、各ロット間での一致率が高くなります。防水構造により、漏れによる停止時間を防ぎ、安定した出力により24時間365日稼働させることができます。
正しく設置するために必要なこと 設置時には、位置合わせと距離調整が重要です。照射強度が高いため、全体をカバーしつつも過熱しないように適切な距離を設定する必要があります。また、ランプが表面で高温になるため、断熱処理やインターロック回路が必須です。波長と出力密度を洗浄液やウェーハの特性に合わせれば、望みの結果が得られます。