洗浄用防水赤外線ランプ

リソグラフィー工程のウェットステージでは、水跡や不均一な加熱が生じるような洗浄処理は、些細な問題ではありません。それは、粒子が溜まりやすくなり、寸法誤差が発生する原因となります。したがって、素早く加熱し、しっかりと乾燥させることができ、かつ水分や粒子が再びシステム内に戻らないような仕組みが必要です...